在(zai)精(jing)密光學實(shi)驗(yan)、掃描探(tan)針(zhen)顯微(wei)鏡(jing)（SPM）、電(dian)子(zi)顯微(wei)鏡(jing)、納(na)米(mi)壓痕、激(ji)光幹涉(she)測量(liang)及(ji)高(gao)精(jing)度(du)計(ji)量(liang)領域(yu)，振(zhen)動(dong)是(shi)影響(xiang)數據(ju)準(zhun)確(que)性(xing)的(de)關(guan)鍵(jian)。氣(qi)浮(fu)隔(ge)振(zhen)平臺利用壓縮氣(qi)體在(zai)平臺與基座(zuo)間(jian)形(xing)成(cheng)微米(mi)級氣(qi)膜，有效隔(ge)離(li)來自地面(mian)、設(she)備或(huo)人員走動(dong)的(de)低頻(pin)振(zhen)動(dong)（1-30Hz），為(wei)精(jing)密儀(yi)器(qi)提(ti)供(gong)穩(wen)定(ding)的(de)環(huan)境(jing)。然(ran)而(er)，其(qi)性(xing)能發(fa)揮(hui)高(gao)度(du)依賴正(zheng)確(que)的(de)安裝(zhuang)與操作方(fang)法(fa)。掌(zhang)握(wo)氣(qi)浮(fu)隔(ge)振(zhen)平臺的(de)科學(xue)使(shi)用技(ji)巧(qiao)，是(shi)駕馭它的(de)關(guan)鍵(jian)。
壹(yi)、環(huan)境選(xuan)擇
平臺應(ying)放置於遠(yuan)離(li)大型機械(xie)、電梯、空壓機等(deng)強振(zhen)源的(de)實(shi)驗(yan)室區(qu)域(yu)。地面(mian)需堅(jian)實(shi)、平整(zheng)、無(wu)明顯傾(qing)斜(xie)。避免陽(yang)光直射或(huo)空調(tiao)出風口(kou)直吹(chui)，防止溫(wen)度(du)梯度(du)引(yin)起(qi)空氣(qi)擾動(dong)。確(que)保(bao)周圍(wei)有(you)足(zu)夠(gou)的(de)操作空間(jian)，便於氣(qi)路連接(jie)與儀(yi)器(qi)布置(zhi)。
二、水(shui)平調(tiao)節(jie)
使用高(gao)精(jing)度(du)水(shui)平儀(yi)（分(fen)度(du)值≤0.02mm/m）調(tiao)整(zheng)平臺底(di)部(bu)的(de)可(ke)調(tiao)支腳(jiao)，使臺面(mian)在(zai)X、Y方向均達到(dao)精(jing)確(que)水(shui)平。水(shui)平偏(pian)差(cha)過(guo)大會(hui)導(dao)致(zhi)氣(qi)膜厚(hou)度(du)不(bu)均，影響(xiang)浮(fu)升(sheng)高(gao)度(du)與隔(ge)振(zhen)效果，甚至造(zao)成平臺單側(ce)接(jie)觸(chu)基座(zuo)。
三、氣(qi)源準(zhun)備(bei)
氣(qi)浮(fu)平臺需潔(jie)凈(jing)、幹燥(zao)、穩(wen)定(ding)的(de)壓縮空氣(qi)（通(tong)常(chang)壓力為(wei)0.4–0.7MPa）。必(bi)須配(pei)備三級過濾(lv)器(qi)（除水(shui)、除油、除塵）和(he)穩(wen)壓閥(fa)，防止雜質(zhi)堵(du)塞微小(xiao)氣(qi)孔(kong)或造(zao)成壓力波動(dong)。建議使用無油空壓機，避免潤(run)滑油(you)汙(wu)染(ran)精(jing)密表(biao)面(mian)。
四、加載與(yu)分布(bu)
放置儀器(qi)時(shi)，確(que)保(bao)總重量(liang)不(bu)超過(guo)平臺額定(ding)承(cheng)載(zai)能力。儀器(qi)應(ying)盡(jin)量(liang)居(ju)中(zhong)布置(zhi)，避免偏(pian)載導致平臺傾(qing)斜(xie)。重型設(she)備宜置於中(zhong)心區(qu)域(yu)，輕型附件(jian)分(fen)布四(si)周，維(wei)持質(zhi)量(liang)分(fen)布均衡(heng)。
五、啟(qi)動(dong)與浮(fu)升(sheng)
先開啟(qi)氣(qi)源，緩慢(man)打(da)開進(jin)氣(qi)閥(fa)門，讓(rang)平臺平穩(wen)升(sheng)起至設(she)計(ji)浮(fu)升(sheng)高(gao)度(du)（通(tong)常(chang)5–20μm）。觀察平臺是(shi)否平穩(wen)懸(xuan)浮(fu)，有(you)無晃動(dong)或局(ju)部(bu)觸(chu)碰(peng)。待平臺穩定(ding)後(hou)（約(yue)1-2分鐘），再啟(qi)動(dong)精(jing)密儀(yi)器(qi)進行(xing)測量(liang)。
六(liu)、運(yun)行(xing)維(wei)護與安全
實(shi)驗結(jie)束(shu)後(hou)，先(xian)關閉儀器(qi)電源，再緩(huan)慢(man)釋放氣(qi)源，讓(rang)平臺平穩(wen)降(jiang)落；
定(ding)期檢查氣(qi)路接(jie)頭(tou)有(you)無(wu)漏氣(qi)，清潔(jie)過濾器(qi)濾芯(xin)；
臺面(mian)保(bao)持清(qing)潔(jie)，避免金(jin)屬(shu)碎屑(xie)或(huo)液體流入(ru)氣(qi)孔(kong)；
嚴禁(jin)在(zai)平臺上進行(xing)敲(qiao)擊(ji)、鉆孔(kong)等(deng)產(chan)生(sheng)沖(chong)擊(ji)的(de)操作。
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技(ji)術(shu)文(wen)章
更新時(shi)間(jian)：2025-10-23
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