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        1. 產(chan)品(pin)中心(xin)

          PRODUCTS CENTER

          當(dang)前(qian)位(wei)置:首(shou)頁(ye)產(chan)品(pin)中心(xin)光學元(yuan)件(jian)濾(lv)光片(pian)NF1064-44Thorlabs陷(xian)波濾(lv)光片(pian),Ø25 mm

          Thorlabs陷(xian)波濾(lv)光片(pian),Ø25 mm

          產(chan)品(pin)簡介

          Thorlabs陷(xian)波濾(lv)光片(pian),Ø25 mm特性
          13種(zhong)中心(xin)波(bo)長可(ke)選
          安裝(zhuang)在(zai)Ø25 mm外殼(ke)中
          阻(zu)帶(dai)峰值(zhi)光密度(du):>6.0 (T < 0.0001%)
          介質(zhi)膜沈積在(zai)經過(guo)拋(pao)光的玻璃基(ji)底(di)上
          兼(jian)容Thorlabs的(de)濾(lv)光片(pian)安(an)裝座和濾(lv)光片(pian)輪
          可(ke)以定(ding)制壹些(xie)陷(xian)波(bo)濾(lv)光片(pian)的(de)尺(chi)寸(cun)

          產(chan)品(pin)型號(hao):NF1064-44
          更(geng)新(xin)時間:2026-01-08
          廠商(shang)性質(zhi):代理(li)商(shang)
          訪問(wen)量(liang):1747
          詳細(xi)介紹(shao)在(zai)線留(liu)言

          Thorlabs陷波(bo)濾(lv)光片(pian),Ø25 mm

          Thorlabs陷(xian)波濾(lv)光片(pian),Ø25 mm

          特性

          • 13種(zhong)中心(xin)波(bo)長可(ke)選

          • 安裝(zhuang)在(zai)Ø25 mm外殼(ke)中

          • 阻(zu)帶(dai)峰值(zhi)光密度(du):>6.0 (T < 0.0001%)

          • 介質(zhi)膜沈積在(zai)經過(guo)拋(pao)光的玻璃基(ji)底(di)上

          • 兼(jian)容Thorlabs的(de)濾(lv)光片(pian)安(an)裝座和濾(lv)光片(pian)輪

          • 可(ke)以定(ding)制壹些(xie)陷(xian)波(bo)濾(lv)光片(pian)的(de)尺(chi)寸(cun);

          Thorlabs陷(xian)波(bo)濾(lv)光片(pian),Ø25 mm通常也稱(cheng)之為帶(dai)阻(zu)或者(zhe)帶(dai)抑制濾(lv)光片(pian),可(ke)以幾乎無(wu)強(qiang)度(du)損耗(hao)地(di)透(tou)過(guo)大(da)多(duo)數(shu)波長,而將(jiang)特定(ding)波長(chang)範(fan)圍(wei)內(nei)(阻(zu)帶(dai))的光衰(shuai)減(jian)到非(fei)常(chang)低的(de)水平(ping)。實(shi)際(ji)上,它(ta)們與(yu)帶(dai)通濾(lv)光片(pian)正(zheng)好(hao)相(xiang)反,帶(dai)通濾(lv)光片(pian)在(zai)帶(dai)通範圍(wei)內(nei)具有(you)高透(tou)射(she)率,帶(dai)通範圍(wei)之(zhi)外具有(you)高抑(yi)制性,因(yin)此只(zhi)透(tou)射(she)很小(xiao)波(bo)長範(fan)圍(wei)內(nei)的光。

          對於需要濾(lv)除激(ji)光器發(fa)射(she)光的應用(yong)來(lai)說,陷波濾(lv)光片(pian)是非(fei)常(chang)有用(yong)的(de)。例(li)如(ru),在(zai)拉曼(man)光譜實(shi)驗(yan)中,為了(le)獲得較(jiao)好(hao)的(de)信(xin)噪(zao)比,抑制泵浦激(ji)光是至關(guan)重(zhong)要的(de)。這可以通過(guo)在(zai)探(tan)測(ce)通道(dao)上放置壹片(pian)陷(xian)波濾(lv)光片(pian)來(lai)實現。除光譜儀(yi)之(zhi)外,陷(xian)波濾(lv)光片(pian)還(hai)經(jing)常(chang)用(yong)於基(ji)於激(ji)光的熒光儀器(qi)和生(sheng)物醫學激(ji)光系統(tong)。

          與(yu)所有介質(zhi)堆(dui)濾(lv)光片(pian)壹樣(yang),陷波(bo)濾(lv)光片(pian)的(de)透(tou)射(she)和入射(she)角(jiao)相(xiang)關(guan)。阻(zu)帶(dai)區(qu)域的(de)中心(xin)波長會隨(sui)著入射(she)角(jiao)的(de)增大轉移(yi)到更(geng)短的(de)波(bo)長。上面(mian)的透(tou)射(she)率曲線圖(tu)標簽(qian)給(gei)出(chu)了透(tou)射(she)率與(yu)波(bo)長(chang)的(de)數據(ju),光密度(du)標簽(qian)給(gei)出(chu)了阻(zu)帶(dai)區(qu)域的(de)光密度(du),入射(she)角(jiao)曲線圖(tu)標簽(qian)給(gei)出(chu)了每(mei)種(zhong)陷(xian)波濾(lv)光片(pian)在(zai)S-和P-偏(pian)振態下的(de)光譜和入射(she)角(jiao)數(shu)據(ju)。

          Thorlabs的(de)陷(xian)波(bo)濾(lv)光片(pian)是由介質(zhi)膜沈積在(zai)經過(guo)拋(pao)光的玻璃基(ji)底(di)上制成(cheng)的,具有(you)優(you)異(yi)的環(huan)境穩(wen)定(ding)性。介質(zhi)膜通過(guo)幹涉相消作(zuo)用(yong)反(fan)射(she)阻(zu)帶(dai)區(qu)域的(de)光,從而(er)提供(gong)高阻(zu)擋(dang)效(xiao)率;阻(zu)帶(dai)內(nei)的光密度(du)大於6.0(對應的(de)透(tou)射(she)率小於0.0001%)。我(wo)們現在(zai)提供(gong)的這(zhe)種(zhong)濾(lv)光片(pian)可(ke)以選擇中(zhong)心(xin)波長查看(kan)下表。不論(lun)選擇的(de)是哪種濾(lv)光片(pian),垂直(zhi)入射(she)下(xia)透(tou)射(she)光束(shu)的(de)波(bo)前(qian)誤差(cha)在(zai)633 nm下都(dou)小於波長(chang)的壹半。這(zhe)些濾(lv)光片(pian)背面鍍(du)有增透(tou)膜(mo),以確(que)保在(zai)通帶(dai)範圍內(nei)的平(ping)均(jun)透(tou)射(she)率大於90%。

          每片(pian)濾(lv)光片(pian)都(dou)安裝在(zai)經過(guo)氧(yang)化(hua)發黑(hei)處理(li)的(de)鋁環(huan)中,上面(mian)用箭(jian)頭標(biao)出(chu)了光的設(she)計傳播(bo)方(fang)向。這個(ge)鋁環(huan)易於拿(na)取(qu),且(qie)通過(guo)限制散射(she)增強了阻(zu)擋(dang)光密度(du)。它們可(ke)以安(an)裝在(zai)我(wo)們的(de)濾(lv)光片(pian)架和濾(lv)光片(pian)輪中(zhong)。由於這些(xie)安裝(zhuang)座(zuo)沒(mei)有(you)螺紋(wen),安(an)裝(zhuang)時需要使(shi)用Ø1英(ying)寸卡(ka)環(huan)將(jiang)濾(lv)光片(pian)安(an)裝在(zai)具備(bei)內(nei)螺紋(wen)的(de)SM1透(tou)鏡套管(guan)中(zhong)。我(wo)們不(bu)建議(yi)把濾(lv)光片(pian)從其(qi)安裝(zhuang)環(huan)中拆(chai)卸,因為這(zhe)樣(yang)很可(ke)能(neng)損(sun)壞(huai)濾(lv)光片(pian)。但(dan)我(wo)們也提(ti)供(gong)未安裝(zhuang)和定(ding)制尺(chi)寸(cun)的(de)濾(lv)光片(pian);

          Thorlabs陷(xian)波濾(lv)光片(pian),Ø25 mm

          Thorlabs陷(xian)波濾(lv)光片(pian),Ø25 mm



          在(zai)線留(liu)言

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