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        1. 技術(shu)文(wen)章

          TECHNICAL ARTICLES

          當前位(wei)置:首(shou)頁技術(shu)文(wen)章如何克(ke)服(fu)因(yin)地(di)面(mian)振動(dong)影響(xiang)光(guang)刻系統(tong)的(de)圖(tu)案(an)質量(liang)?

          如何克(ke)服(fu)因(yin)地(di)面(mian)振動(dong)影響(xiang)光(guang)刻系統(tong)的(de)圖(tu)案(an)質量(liang)?

          更新時間(jian):2021-02-05點(dian)擊(ji)次數(shu):2348

          如何克(ke)服(fu)因(yin)地(di)面(mian)振動(dong)影響(xiang)光(guang)刻系統(tong)的(de)圖(tu)案(an)質量(liang)

          振動(dong)對高級(ji)浸(jin)沒(mei)式光(guang)刻的(de)影響(xiang) 

          沒有使用(yong)STACIS®

          在(zai)原(yuan)基座的(de)彈(dan)性體或剛(gang)性(xing)版本(ben)上(shang)獲得jia模(mo)式(shi)

           

          使用(yong)STACIS®

          STACIS主動(dong)隔振實現(xian)的(de)模(mo)式(shi)

             

                  所示(shi)的45納(na)米線寬測試圖(tu)形(xing)是由Amphibian Systems公司(si)生(sheng)產(chan)的(de)*浸(jin)入(ru)式光(guang)刻系統(tong)生(sheng)產(chan)的(de),安裝在(zai)德(de)克(ke)薩斯州(zhou)*的(de)SEMATECH公司(si)。圖(tu)像(xiang)之間(jian)的差(cha)異是由於(yu)地(di)震(zhen)振動(dong)對光(guang)刻過(guo)程的(de)影響(xiang)。所顯示的(de)圖(tu)像(xiang)是使(shi)用(yong)掃(sao)描電(dian)子(zi)顯微鏡(jing)獲得的。

                  該工(gong)具初(chu)安裝在(zai)鋼(gang)和混凝土(tu)基座上(shang),基座采用鋼支撐(cheng)結構,其中(zhong)包含商業彈(dan)性體隔振(zhen)墊。這(zhe)個基座沒(mei)有達到(dao)工(gong)具要(yao)求的(de)振動(dong)標準,模(mo)式(shi)質量(liang)很(hen)差。

                  為了(le)減少(shao)振動(dong),彈(dan)性體墊塊(kuai)被(bei)有效地(di)用(yong)金屬(shu)墊片(pian)短路,從而(er)導致(zhi)更剛性、非共(gong)振(zhen)結構,但這幾(ji)乎(hu)沒有改善(shan)。振動(dong)標準不符(fu)合任何版本(ben)的基(ji)座和(he)模(mo)式(shi),質量(liang)仍(reng)然很差。

                  基座支(zhi)撐(cheng)結構被(bei)移除(chu),並安(an)裝了STACIS®主動(dong)壓(ya)電(dian)消(xiao)振系統(tong)STACIS基座被(bei)直(zhi)接放置在(zai)現(xian)有的底(di)座下(xia)面(mian)。將工(gong)具支(zhi)撐在(zai)STACIS上(shang),顯著降(jiang)低(di)了(le)整(zheng)體地(di)震(zhen)振動(dong)水平,並(bing)達到(dao)了(le)制造(zao)商(shang)的(de)地(di)面(mian)振動(dong)規範。更重要的是,STACIS在(zai)模(mo)式(shi)質量(liang)方(fang)面(mian)提供(gong)了(le)顯著的(de)改進(jin)。

          不同(tong)配(pei)置的(de)振(zhen)動(dong)測量(liang)。工(gong)具規格:0.125 mils /s RMS。垂直(zhi)軸數據顯示。

          綠(lv)色:彈(dan)性體減振(zhen)

          白色(se):短路彈(dan)性體減振(zhen)

          藍色(se):STACIS減振(zhen)        

           *Sematech提供(gong)的照(zhao)片(pian)、圖(tu)像(xiang)和振(zhen)動(dong)數據。

          關於(yu)TMC☆

                TMC為納(na)米技術(shu)設計和(he)制造(zao)*的(de)建(jian)築地(di)面(mian)隔振(zhen)系統(tong)。TMC隔離器(qi)支持(chi)超(chao)精(jing)密(mi)測(ce)量(liang)、儀器和(he)制造(zao)。我(wo)們(men)繼續(xu)領(ling)xian於(yu)行業(ye)*的主動(dong)、慣性振動(dong)消(xiao)除(chu)系統(tong),具有壓(ya)電(dian)驅動(dong)器和數字(zi)控制器。我們(men)的無源(yuan)產(chan)品(pin)範圍(wei)從(cong)簡單(dan)的、桌面(mian)隔離顯微鏡(jing)底(di)座,到(dao)幾(ji)乎(hu)任何尺寸(cun)的光(guang)學(xue)表(biao)系統(tong)。
                TMC產(chan)品(pin)讓(rang)光(guang)子(zi)學(xue)、半導體制造(zao)、生(sheng)命(ming)科(ke)學(xue)、藥(yao)物(wu)發現(xian)和(he)納(na)米技術(shu)等(deng)領域的(de)超精(jing)密(mi)研(yan)究(jiu)、測(ce)量(liang)和(he)制造(zao)成(cheng)為(wei)可能。我(wo)們(men)的產(chan)品(pin)是在(zai)*的(de)、垂直(zhi)壹體化的制造(zao)設施中(zhong)設計和(he)制造(zao)的(de),並(bing)以提(ti)供優質服(fu)務的(de)客(ke)戶(hu)承諾(nuo)為(wei)後盾。
                TMC是阿(e)美(mei)特克(ke)超精(jing)密(mi)測(ce)量(liang)部(bu)門(men)成(cheng)員(yuan),阿(e)美(mei)特克(ke)是電(dian)子(zi)儀器和(he)機(ji)電(dian)設備的(de)突出(chu)者(zhe),年(nian)銷(xiao)售(shou)額約為50億(yi)美(mei)金。為材(cai)料分(fen)析、超(chao)精(jing)密(mi)測(ce)量(liang)、過(guo)程分(fen)析、測(ce)試測(ce)量(liang)與(yu)通訊(xun)、電(dian)力(li)系統(tong)與(yu)儀器、儀表(biao)與使(shi)用(yong)控制、精(jing)密(mi)運動(dong)控制、電(dian)子(zi)元器(qi)件與(yu)封裝、特種金屬(shu)產(chan)品(pin)等(deng)領(ling)域提(ti)供技(ji)術(shu)解(jie)決(jue)方(fang)案(an)。

           

          森泉光(guang)電(dian)為TMC中(zhong)國(guo)區(qu)總(zong)代(dai)理(li)。

          森泉為您的(de)科(ke)研(yan)事(shi)業(ye)添(tian)磚加(jia)瓦(wa):

          1  激光(guang)控制:激光(guang)電(dian)流源(yuan)、激光(guang)器溫(wen)控器(qi)、激光(guang)器控制、伺服(fu)設備與(yu)系統(tong)等(deng)等

          2  探測(ce)器:光(guang)電(dian)探測(ce)器、單(dan)光(guang)子(zi)計數(shu)器、單(dan)光(guang)子(zi)探測(ce)器、CCD、光(guang)譜分析系統(tong)等(deng)等

          3  定(ding)位(wei)與(yu)加(jia)工(gong):納(na)米定(ding)位(wei)系統(tong)、微(wei)納(na)運動(dong)系統(tong)、多(duo)維位(wei)移臺(tai)、旋轉(zhuan)臺(tai)、微(wei)型(xing)操(cao)作(zuo)器等等

          4  光(guang)源:半導體激光(guang)器、固(gu)體激光(guang)器、單(dan)頻激光(guang)器、單(dan)縱模(mo)激光(guang)器、窄(zhai)線寬激光(guang)器、光(guang)通訊(xun)波段(duan)激光(guang)器、CO2激光(guang)器、中(zhong)紅外(wai)激光(guang)器、染(ran)料激光(guang)器、飛秒超(chao)快(kuai)激光(guang)器等(deng)等

          5  光(guang)機械件(jian):用於(yu)光(guang)路系統(tong)搭(da)建的(de)高品(pin)質(zhi)無(wu)應(ying)力(li)光(guang)機械件(jian),如光(guang)學(xue)調整(zheng)架(jia)、鏡架(jia)、支撐(cheng)桿、固(gu)定(ding)底(di)座等(deng)等(deng)

          6  光(guang)學(xue)平臺(tai):主動(dong)隔振平臺(tai)、氣浮(fu)隔(ge)振(zhen)臺(tai)、實(shi)驗(yan)桌、剛(gang)性(xing)工(gong)作臺(tai)、面(mian)包板(ban)、隔(ge)振(zhen)、隔(ge)磁(ci)、隔(ge)聲綜(zong)合解(jie)決(jue)方(fang)案(an)等等(deng)

          7  光(guang)學(xue)元件(jian):各類(lei)晶(jing)體、光(guang)纖、偏(pian)轉(zhuan)鏡、反射(she)鏡、透射(she)鏡(jing)、半透半反鏡(jing)、濾光(guang)片(pian)、衰(shuai)減片(pian)、玻片(pian)等(deng)等

          8 染料:激光(guang)染料、熒光(guang)染料、光(guang)致(zhi)變(bian)色(se)染(ran)料、光(guang)致(zhi)發(fa)光(guang)染料、吸(xi)收染料等(deng)等

           

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